О проекте:
Проект направлен на разработку технологии получения высокочистого тетраэтоксисилана (ТЭОС) с содержанием примесей на уровне 10 ppb для нужд микроэлектронной промышленности. Основная идея заключается в создании усовершенствованной установки ректификации с нанофильтрацией, использующей кварцевую колонну и инертные полимерные мембраны, что позволяет достичь беспрецедентной степени очистки.

Планируемым результатом является:

• Технология и установка для очистки ТЭОС производительностью более 5 тонн в год.
• Конечный продукт — тетраэтоксисилан чистотой 99,99999% (7N), что на три порядка превышает качество доступных российских аналогов.

Продукт предназначен для ключевых отечественных производителей микроэлектроники, таких как АО «Микрон», АО «НИИМЭ» и АО «Ангстрем», которые используют ТЭОС в процессах химического осаждения из газовой фазы (CVD) для создания диэлектрических слоев.

Решение обеспечит импортонезависимость и снизит себестоимость производства высокотехнологичной продукции за счет использования отечественного сырья и передовой, экономичной технологии очистки.