О проекте:
Проект направлен на создание отечественной технологии глубокой очистки гексаметилдисилазана (ГМДС) — ключевого реагента для полупроводниковой промышленности.

Основная идея заключается в комбинации компьютерно-оптимизированной ректификации и прецизионной мембранной ультрафильтрации для достижения высочайшего стандарта чистоты.

Планируемым результатом является технологический процесс и установка для производства высокочистого ГМДС с чистотой ≥99.99% и содержанием металлических примесей <0.1 ppb (стандарт SEMI Grade 5).

Продукт предназначен для российских производителей интегральных схем и полупроводниковых приборов (ПАО «Микрон», АО «Ангстрем»).

Ключевые преимущества:

• Импортозамещение: полная независимость от санкционных рисков.
• Высокие параметры: чистота продукта на уровне лучших мировых образцов.
• Экономическая эффективность: стоимость продукта на 20-30% ниже импортных аналогов.
• Адаптивность: методология применима для очистки других особо чистых веществ.